电化学定域性刻蚀多孔InP光波导

摘要：

采用电子束光刻技术与电化学定域性刻蚀技术制备了多孔InP光波导.使用扫描电子显微镜对电化学定域性刻蚀方法制备的多孔InP进行表征和分析,研究了电流密度、掩模图形和刻蚀时间对定域性刻蚀制备的多孔InP结构的影响.电化学刻蚀过程中,分别利用掩模图形诱导刻蚀方向,改变电流密度调整孔隙大小和深度,改变刻蚀时间控制形成的多孔结构的深度.采用电化学定域性刻蚀与电子束光刻技术相结合,在InP衬底上制备具有光学传输特性的光波导结构.反射率测试结果表明,采用波长900 nm的入射光,多孔结构具有导波模式.使用500 μm长的InP多孔结构所制备波导的损耗约为9.92 dB/cm.多孔结构InP光波导在光子集成领域具有较好的应用价值和前景.

关键词：多孔InP、电子束光刻、电化学刻蚀、定域性、波导

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分类号：TN304.23(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;海南省自然科学基金;吉林省科技厅重点攻关资助项目;吉林省科技厅重点攻关资助项目;装备预研重点项目;吉林省教育厅项目

在线出版日期：2020-12-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：964-968,981