紫外光和催化剂对GaN电化学特性及CMP速率的影响

摘要：

通过电化学和化学机械抛光(CMP)实验研究了紫外光及催化剂对GaN电化学特性及去除速率的影响.电化学实验结果表明,采用K2S2O8作为氧化剂时GaN的腐蚀电位随氧化剂的浓度增大而降低.在H2O2和K2S2O8体系中分别加入ZnO催化剂并进行紫外光照射,其腐蚀电位进一步降低,腐蚀速率加快.CMP结果显示,在H2O2和K2S2O8抛光液体系中,紫外光的加入能有效提高GaN的去除速率;加入ZnO催化剂后,GaN的去除速率进一步提高,当H2O2体积分数为3％、ZnO的质量分数为0.05％时,GaN的去除速率达239.7 nm/h;当K2S2O8体积分数0.15 mol/L、ZnO的质量分数0.05％时,GaN的去除速率为428.0 nm/h,此时GaN表面粗糙度为1.18 nm.紫外光照射和ZnO催化剂能够明显提高CMP过程中GaN的去除速率.

关键词：GaN、化学机械抛光(CMP)、电化学、抛光速率、紫外光、催化剂

所属期刊栏目：44

分类号：TN305.2(半导体技术)

资助基金：河北省高层次人才项目E2013100006

在线出版日期：2019-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：783-789