基于喷墨打印的In2 O3/IGZO TFT的电学性能

摘要：

利用喷墨打印技术制备了非晶铟镓锌氧化物(IGZO) 薄膜、铟氧化物(In2O3) 薄膜和性能明显改善的双层In2O3 /IGZO 异质结沟道薄膜,研究了薄膜的物理与电学特性.结果表明,喷墨打印制备的金属氧化物薄膜具有较高的光学透过率与较低的表面粗糙度; 嵌入的In2O3层薄膜能减小IGZO 与In2O3间的界面缺陷,明显提高In2O3 /IGZO 薄膜晶体管(TFT) 的性能及其偏压稳定性.随着IGZO 中In 含量的增加,载流子浓度升高,器件的迁移率增大,但In2O3与 IGZO 间能级势垒会逐渐降低,最后导致难以控制关态电流和阈值电压,因此,适当调整In 的比例有利于获得较高器件性能的In2O3 /IGZO 异质结沟道TFT.

关键词：非晶铟镓锌氧化物(IGZO)、喷墨打印、In2O3、异质结沟道层、薄膜晶体管(TFT)

所属期刊栏目：44

分类号：TN321.5;TN386(半导体技术)

资助基金：国家重点研发计划2016YFB0401100

在线出版日期：2019-06-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：349-355