碳化硅MOSFET器件高温栅偏特性的实验分析

摘要：

为了评估不同电热应力和时间周期下碳化硅(SiC)金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的高温栅偏特性,搭建了具备施加高温栅偏应力和测量器件静态特性以及两者快速切换的实验平台.从施加高温栅偏应力、去除应力后室温下短期恢复和长期恢复3个不同阶段研究了SiC MOSFET静态参数对高温栅偏应力的敏感度,以及不同时间周期范围内阈值电压的恢复能力.实验结果表明,高温栅极正偏压和高温环境存储都会导致器件阈值电压的正向漂移,室温施加栅极正偏压,器件阈值电压几乎不发生漂移.此外,长时间高温栅偏后,室温条件下器件的导通电阻和泄漏电流都表现出十分优异的稳定性.然而,高温栅偏后器件阈值电压的漂移程度还取决于恢复时间,恢复时间越长,阈值电压漂移程度越小.

关键词：碳化硅(SiC) MOSFET、高温栅偏、静态特性、灵敏度、恢复时间

所属期刊栏目：43

分类号：TN386(半导体技术)

资助基金：国家重点研发计划2016YFB0400503

在线出版日期：2018-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：752-759