基于胶体球掩模板法制备图形化蓝宝石衬底

摘要：

制备并研究了纳米级图形化蓝宝石衬底.采用磁控溅射技术在蓝宝石衬底上沉积 SiO2薄膜,利用自组装方法在SiO2薄膜上制备单层聚苯乙烯(PS)胶体球阵列,利用感应耦合等离子体干法刻蚀将周期性PS胶体球的图形转移到SiO2薄膜上,通过湿法腐蚀制备了纳米级图形化蓝宝石衬底.利用扫描电子显微镜对胶体球掩膜、SiO2纳米柱掩膜和图形化蓝宝石衬底结构进行了观察,研究了湿法腐蚀蓝宝石衬底的中间产物对刻蚀的影响,分析了腐蚀温度和腐蚀时间对蓝宝石衬底的影响.结果表明,湿法腐蚀的中间产物会降低蓝宝石衬底的刻蚀速率.蓝宝石衬底的腐蚀速率随着腐蚀温度的升高而加快;在同一腐蚀温度下,随着腐蚀时间的增加,图形尺寸进一步减小.

关键词：图形化蓝宝石衬底(PSS)、湿法腐蚀、聚苯乙烯(PS)、胶体球掩膜、腐蚀速率

所属期刊栏目：43

分类号：TN304.21;TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2018-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：353-358,374