HFCVD金刚石薄膜的热场模拟及实验

摘要：

基体温度是影响金刚石薄膜生长质量的重要因素之一.基于有限元分析法,通过AN-SYS CFX软件对基体温度场进行模拟仿真,得到基体表面温度场的分布,并分别讨论了热丝-基体距离、热丝间距、水冷系数等参数对系统温度场均匀性和一致性的影响.经仿真优化后得到的参数值分别为热丝-基体距离10 mm、热丝间距15 mm、水冷系数1 000 W/(m2·K).在此优化工艺的基础上进行热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜的实验,并采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜表面特征进行检测.结果表明:利用仿真优化后的薄膜生长参数,可以在金刚石薄膜生长区域得到比较均匀的多晶金刚石薄膜.

关键词：热丝化学气相沉积(HFCVD)、金刚石薄膜、温度场、有限元分析、均匀性

所属期刊栏目：43

分类号：TN304.055;TN304.18(半导体技术)

资助基金：国家科技重大专项;国家自然科学基金;河北省自然科学基金;河北省自然科学基金;天津市自然科学基金;博士后科研项目

在线出版日期：2018-01-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：53-58