伯克利短沟道绝缘栅场效应晶体管模型的研究进展

摘要：

随着金属氧化物半导体(MOS)集成电路工艺的飞速发展,体硅金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)模型经历了从物理到经验,最后到半经验物理的转变.介绍了以阈值电压和反转电荷为建模基础的伯克利短沟道绝缘栅场效应晶体管模型(BSIM),以及该模型中阈值电压、饱和电流和电容的基本建模理论.回顾了近年来体硅MOSFET BSIM的研究进展,着重从各种模型的优缺点、建模机理和适用范围方面分析了4种最有代表性的BSIM,即BSIM3v3,BSIM4,BSIM5和BSIM6.从模型的发展历史可以看出模型是随着MOSFET尺寸的缩小而不断完善和发展的.最后,对体硅MOSFET的模型发展趋势进行了展望.

关键词：伯克利短沟道绝缘栅场效应晶体管模型(BSIM)、阈值电压、饱和电流、电荷密度、夹断电势、电容模型

所属期刊栏目：43

分类号：TN386;TN432(半导体技术)

在线出版日期：2018-01-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：15-23