高浓度臭氧超净水制备及在硅片清洗中的应用

摘要：

利用自主研发强电离放电的臭氧超净水产生系统,采用强电场电离放电把氧激发、电离,电离离解成O,O-,O+,O(1 D)和O2(a1△g)等活性粒子,它们进一步反应形成高浓度气态O3,再用强激励方法把气态O3高效率溶于超净水中形成高浓度臭氧超净水.实验结果表明,当强电离放电电场强度为96 kV/cm,放电功率为800 W,形成高浓度臭氧超净水反应时间为30 min时,臭氧超净水质量浓度达到34.2 mg/L,去除Fe,Cu和Al颗粒物效率达到90％以上,满足硅片清洗的要求,为硅片清洗提供了一种形成高浓度臭氧超净水新方法.

关键词：强电离放电、臭氧、臭氧超净水、硅片、清洗

所属期刊栏目：40

分类号：TN305.97(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金61371027

在线出版日期：2015-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：671-674,691