双氧水在碱性抛光液中的稳定性研究

摘要：

氧化剂是铜互连化学机械抛光液的重要组成部分,是决定抛光速率和平坦化效率的重要影响因素.双氧水(H2O2)是抛光液中最常用的氧化剂,其稳定性是评估抛光液性能的重要指标之一,直接关系到抛光液的寿命及其是否可以产业化.针对抛光速率、抛光液的pH值以及抛光后表面质量进行考察,分析了这三方面随抛光液放置时间的变化规律,从而得到H2O2在碱性抛光液中的稳定性规律.实验结果表明,抛光液主要成分的体积分数分别为硅溶胶2.5％、螯合剂1％、氧化剂1％时,抛光液最稳定,寿命可以达到24 h,满足工业化生产要求.

关键词：双氧水、碱性抛光液、稳定性、氧化剂、材料去除速率

所属期刊栏目：37

分类号：TN305.2(半导体技术)

资助基金：国家科技重大专项2009ZX02308

在线出版日期：2012-12-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：850-854