晶片表面Haze值研究

摘要：

介绍了晶片表面Haze值的定义和理论依据,通过对SSIS系统的原理分析,揭示了H aze是一种间接反映晶片表面状态的光学信号.通过对不同表面状态抛光片的光学扫描,研究了晶片表面粗糙度与Haze值的关系；通过对Si抛光片和砷化镓抛光片的扫描对比,研究了晶片本体反射系数对Haze值的影响.研究结果表明,同种材料的Haze值随着表面粗糙度的增大而增大,而不同的材料即使拥有相似的表面粗糙度,Haze值也会因本体反射系数的不同而呈现很大差异.通过对Haze扫描图的特征分析,研究了Haze值分布与晶片表面均匀性的关系,成功地利用Haze值分布将表面性状化,为化学机械抛光和湿法清洗工艺提供了一个新的反馈手段.

关键词：Haze值、光散射、表面粗糙度、一致性、扫描表面检查系统

所属期刊栏目：36

分类号：TN304(半导体技术)

在线出版日期：2012-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：681-683