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10.3969/j.issn.1003-353x.2011.04.007

阳极氧化铝工艺用于提高LED的出光效率

引用
使用纳米尺度的多孔阳极氧化铝(anodic aluminum oxide,AAO)作为刻蚀掩膜,刻蚀氧化铟锡(indium-tin oxide,ITO),形成纳米图形化表面,对于发光二极管的出光效率有明显的提升作用.AAO纳米掩膜的制备已广为报道,是纳电子学研究中常用的模板之一,工艺简单易行、可控性好.使用电感耦合反应离子刻蚀方法成功将纳米多孔结构转移到ITO上,形成ITO纳米结构.纳米图形化结构的引入使得器件有效减小了内部的全反射,在电压没有大幅提高,注入电流350 mA时,光学输出提高了7%.纳米尺度粗化结构LED与传统结构LED对比,提升了器件的外量子效率.

发光二极管、氮化镓、阳极氧化铝、外量子效率、纳米图形化表面

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TN312.8(半导体技术)

2011-08-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

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2011,36(4)

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