Al-Mg合金化学机械抛光的实验研究

摘要：

将CMP技术用于Al-Mg合金表面加工中,根据抛光布特性及Al-Mg合金性质来选择抛光布.并从研究Al-Mg合金在碱性条件下化学机械抛光机理出发确定相应的抛光液,最后对Al-Mg合金化学机械抛光中pH值、压力、流量等主要参数进行优化实验.确定当压力为0.05 MPa,pH值为11.20,流量为250 ml/min时,Al-Mg合金表面状态良好.用美国ZYGO公司产的NewView6000非接触光学表面轮廓仪来测量表面粗糙度已达到纳米级别.

关键词：化学机械抛光、抛光布、单因素法、表面状态、抛光液

所属期刊栏目：35

分类号：TN305.2(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金;河北省教育厅科研项目

在线出版日期：2011-03-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1174-1177