TiO2薄膜的制备及其压敏特性研究

摘要：

对热氧化制备的TiO2薄膜的低压压敏特性进行了研究.首先利用直流磁控溅射方法在重掺Si衬底上沉积一层金属钛膜,然后在退火炉中热氧化得到TiO2薄膜.XRD分析结果表明,Ti金属膜热氧化所得的TiO2薄膜为金红石结构,当热氧化温度600～800 ℃时呈现(200)择优取向性.I-V测试结果表明,择优取向的TiO2薄膜相对非择优取向的TiO2薄膜具有更高的压敏阈值电压.进一步分析表明,阈值电压与择优取向性的关系起源于薄膜厚度的变化.

关键词：二氧化钛、薄膜、压敏特性、择优取向、厚度

所属期刊栏目：35

分类号：TN304.93(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金;浙江省科技计划

在线出版日期：2010-12-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：973-975