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10.3969/j.issn.1003-353x.2010.08.011

无Cr腐蚀液显示直拉Si单晶中的氧化诱生层错

引用
Si抛光片的氧化诱生层错(OSF)是一种重要的工艺诱生缺陷,为提高Si抛光片质量,应对氧化诱生层错的产生有充分的认识和了解,并加以克服,而简单、快捷、准确地显示缺陷是首要条件.介绍了采用环保的无Cr腐蚀液显示氧化诱生层错,实验发现无Cr腐蚀液能很好地显示氧化诱生层错,比较了无Cr腐蚀液和其他常用腐蚀液的缺陷腐蚀形貌,探讨了无Cr腐蚀液的腐蚀机理及腐蚀条件.实验发现环保的无Cr腐蚀液能很好地显示直拉Si单晶中的氧化诱生层错,能应用于生产.

氧化诱生层错、无铬腐蚀液、硅单晶、检测、抛光片

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TN304.1(半导体技术)

国家科技重大专项2008ZX02401

2010-09-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

787-790

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半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

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2010,35(8)

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