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10.3969/j.issn.1003-353x.2010.08.005

多结化合物电池用p型Ge抛光片清洗技术研究

引用
对多结化合物太阳电池用的p型Ge抛光片的清洗技术做了研究.Ge抛光片的清洗可以采用酸性清洗液和碱性清洗液相结合的方式.酸性清洗液的主要作用是去除晶片表面的有机物;碱性清洗液的主要作用是去除晶片表面的颗粒.清洗液的温度和组分影响着抛光片的清洗效果.通过实验结果确定了p型Ge抛光片的清洗方案,采用这一清洗方案清洗的Ge抛光片,表面质量可以达到"开盒即用"的水平.运用晶片清洗机理分析了各种清洗液的功能和作用.

p型锗抛光片、清洗技术、太阳电池、清洗液、晶片

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TN305.2(半导体技术)

国家高技术研究发展计划(863计划)2002AA001013

2010-09-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

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2010,35(8)

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