TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺

摘要：

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势.各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击.在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中.通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向.

关键词：掩模版、薄膜晶体管液晶显示器、阵列工艺、技术进展、市场行情

所属期刊栏目：35

分类号：TN321.5;TN305.6(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划（863计划）;中国博士后科学基金

在线出版日期：2010-08-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：522-526,559