太阳能级Si片清洗工艺分析

摘要：

在实验基础上对太阳能级Si片碱性清洗工艺进行了分析,指出碱性清洗液在适宜的工艺环境下,配合超声清洗和表面活性剂的使用可以获得良好的清洗效果.结果表明,表面金属浓度分别达到Cu元素小于1.3×1014atoms/cm2,Fe元素小于5×1013 atoms/cm2.碱性清洗液与Si晶体发生两步化学反应,平衡后OH-离子浓度保持稳定,是以获得稳定的清洗效果同时提高清洗液的使用效率.

关键词：硅片、碱性清洗、表面活性剂、超声清洗、对太阳能级

所属期刊栏目：35

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2010-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：309-312