采用热纯水漂洗消除时间雾缺陷

摘要：

清洗工艺在抛光Si片加工中广泛使用,其纯水槽使用的纯水受区域和季节变化的影响,温度最大波动可以达到10℃以上.阐述了这种波动对清洗后Si片表面化学残留物浓度造成的影响,当冬季水温出现下降,Si片表面化学残留浓度上升,导致时间雾的出现.提出使用热纯水漂洗技术,通过纯水加热器对最终清洗机纯水溢流槽纯水进行加热,使纯水温度保持在稳定水平,在生产中可有效地消除时间雾缺陷并且将Si片表面化学残留浓度控制在良好的水平.

关键词：Si抛光片、IPA干燥器、时间雾、热纯水、全反射X射线荧光法

所属期刊栏目：34

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2009-11-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：849-851