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10.3969/j.issn.1003-353X.2008.09.004

半导体制程废气处理技术实践

引用
讨论了半导体制造废气处理技术与排放,包括热排气、酸性排气、碱性排气和有机排气这四种工艺废气处理设备的应用和处理原理,以及在实际的操作运行中不同系统控制参数对处理效率的影响,并通过实验确定合理的参数设定范围.特别阐述了有机废气处理技术和相关处理设备的应用和操作运行,以及实现系统高效节能运行的技术实践,对半导体厂实现环境保护以及降低气态分子级污染物对生产的影响提供了现实可行的操作依据.

半导体制造、气态分子级污染物、酸性排气、碱性排气、有机排气、挥发性有机成分

33

TN305.97(半导体技术)

2008-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

752-755

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半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

33

2008,33(9)

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