193 nm浸没式光刻材料的研究进展

摘要：

介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战.在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述.并对顶部涂料存在的问题进行了阐述.对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体树脂及光刻胶应用方面进行了综述,并重点描述了无须顶部涂层的光刻胶,最后对193 nm浸没式光刻材料发展趋势作了展望.

关键词：193 nm浸没式光刻、浸没液体、顶部涂料、光刻胶

所属期刊栏目：33

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家十一五重点攻关计划支持项目JPPT115-490

在线出版日期：2008-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：743-747