期刊专题

10.3969/j.issn.1003-353X.2008.08.016

ZnO/(Ni)薄膜的制备与发光性能的研究

引用
采用直流磁控溅射法制备了ZnO/(Ni)薄膜.研究了氧分压及Ni掺杂对ZnO薄膜的结构、光致发光特性及薄膜中的几种本征缺陷如氧空位(VO)、锌空位(VZn)、氧位锌(OZn)、锌位氧(ZnO)、间隙氧(Oi)、间隙锌(Zni)等浓度变化的影响.实验结果表明,随着氧分压的增大,466nm处的蓝色发光峰增强,掺Ni后蓝色发光峰也增强.通过分析,推测出蓝色发光峰可能是由ZnO薄膜中的间隙锌(Zni)点缺陷引起的.

ZnO薄膜、光致发光、间隙锌、Ni掺杂

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O484.4(固体物理学)

2008-11-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

701-704

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半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

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2008,33(8)

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