CMP终点监测装置的设计

摘要：

对CMP工艺过程中的一种终点监测技术进行论述,分析了国外某公司抛光机的电机电流变化监测技术,在此基础上,设计了一种高精度的电流监测和电流电压转换电路,电流监测基于LTC6102高精度电流监测放大器,电流电压转换电路基于MAX472高精度电流传感放大电路和MAX951微功耗/比较放大电路.改进的电路构成简单,监测精度高,成功实现了从安培级的负载电流中辨别出微安级电流变化的精度.实验证明,该电路精度好于1%,显著提高了终点监测精度.

关键词：化学机械抛光、终点监测、电流电压转换

所属期刊栏目：33

分类号：TN305.5(半导体技术)

资助基金：北京市教委科技发展计划KM200711232004

在线出版日期：2008-11-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：670-673