期刊专题

10.3969/j.issn.1003-353X.2008.06.016

高阻衬底集成电路抗闩锁效应研究

引用
研究用增加多子保护环的方法抑制功率集成电路的闩锁效应,首次给出环距、环宽设计与寄生闩锁触发阈值的数量关系,并比较了不同结深的工序作为多子环的效果.对于确定的设计规则.还比较了不同电阻率衬底材料的CMOS单元中的闩锁效应,结果表明合理设计可以有效地改善高阻衬底的寄生闩锁效应,仿真结果验证了正确性.

闩锁效应、多子保护环、高阻衬底

33

TN405(微电子学、集成电路(IC))

上海市引进技术的吸收与创新年度计划;上海市科委国际合作项目

2008-07-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

517-519

暂无封面信息
查看本期封面目录

半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

33

2008,33(6)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn