10.3969/j.issn.1003-353X.2008.06.016
高阻衬底集成电路抗闩锁效应研究
研究用增加多子保护环的方法抑制功率集成电路的闩锁效应,首次给出环距、环宽设计与寄生闩锁触发阈值的数量关系,并比较了不同结深的工序作为多子环的效果.对于确定的设计规则.还比较了不同电阻率衬底材料的CMOS单元中的闩锁效应,结果表明合理设计可以有效地改善高阻衬底的寄生闩锁效应,仿真结果验证了正确性.
闩锁效应、多子保护环、高阻衬底
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TN405(微电子学、集成电路(IC))
上海市引进技术的吸收与创新年度计划;上海市科委国际合作项目
2008-07-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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