10.3969/j.issn.1003-353X.2007.07.020
低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术
微电子技术和封装工艺的发展使超大规模集成电路(VLSI)的密度越来越高,而高密度低温共烧陶瓷(LTCC)基板的制作依赖于基板内部导体的精细互连技术.为了满足LTCC多层基板高密度互连的工艺要求,必须使基板微通孔的直径及导线线宽缩小到100 μm以内.基于此,首先介绍了LTCC生瓷带层的微通孔形成与填充工艺,以及所形成的微通孔的特点;利用厚膜丝网印刷技术形成精细导线,分析了影响印刷质量的工艺参数;最后简要介绍了薄膜光刻等新技术.通过应用上述几种先进的精细互连工艺技术,极大地提高了LTCC多层基板的互连密度.
高密度互连、低温共烧陶瓷、微通孔、通孔填充、丝网印刷
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TN305.97;TN405.97(半导体技术)
江苏省高校科研成果产业推进工程计划项目JHZD06-42
2007-08-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
629-633