用于光刻的EUV光源

摘要：

对国际上普遍采用的两种EUV光源:放电等离子体源(DPP)和激光等离子体源(LPP)进行了多方面比较.给出了两种等离子体源各自优点及难以克服的困难.基于目前的测量结果,指出了ECR等离子体有潜力成为一种新型的极紫外辐射源.

关键词：光刻、极紫外光源、放电等离子、激光等离子体、ECR等离子体

所属期刊栏目：32

分类号：TN3(半导体技术)

资助基金：中国科学院项目（非规范项目）;国家自然科学基金;中国科学院所长基金

在线出版日期：2007-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：12-16