期刊专题

10.3969/j.issn.1003-353X.2007.01.002

AlGaN/GaN HEMT欧姆接触的研究进展

引用
从欧姆接触形成的机理出发,介绍了在AlGaN/GaN HEMT中实现源和漏区欧姆接触的各种方法,如表面处理技术、金属化系统和重掺杂技术等.回顾了近年来这些方法的研究进展.

欧姆接触、铝镓氮/氮化镓、高电子迁移率晶体管

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TN3(半导体技术)

国家重点实验室基金;应用基础研究项目;国家重点基础研究发展计划(973计划)

2007-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

6-11

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半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

32

2007,32(1)

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