用在可制造性设计中的光刻规则检查

摘要：

可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程.基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处.本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口.

关键词：可制造性设计、光刻规则检查、光学邻近效应修正、设计规则、制程窗口

所属期刊栏目：31

分类号：TN3(半导体技术)

资助基金：上海市科技专项基金PKJ2004-58

在线出版日期：2006-12-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：920-923