半导体PVD工艺用溅射靶材诞生的故事--余姚"造靶"札记

摘要：

@@ 1 前言
超大规模集成电路制造用的溅射靶材是采用超高纯度金属经特殊加工工艺生产出来的,是最终形成生产半导体必需的配线材料,半导体集成度性能的提升非常依赖于靶材技术的进步;之前,只有美国、日本等少数跨国公司具备大规模制造溅射靶材的能力,目前中国半导体工业用靶材全部依赖进口.然而在2006年1月,却传来一条震憾性的新闻,我国第一条超大规模集成电路制造用溅射靶材生产线在宁波余姚实现了批量产.据了解,这个创造历史的企业是由江丰集团宁波长城精工实业有限公司(简称长城精工)投资的,此项目的诞生与三个海归博士的回国创业也紧密的联系在一起.

机标关键词：溅射靶材、半导体

所属期刊栏目：31

分类号：TG115.23;TN304.05;O657.31

在线出版日期：2006-06-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：340-341