用于提高光刻分辨率的光学成像算法的研究

摘要：

通过对光刻系统中光学成像系统的模拟,提出了改善光刻分辨率的途径以及基于卷积核的计算光强的方法,并介绍了光学系统的传输交叉系数具体计算过程.建立准确描述由于掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸变化的光刻工艺模型,有助于开发由成品率驱动的版图设计工具,自动地实现深亚微米下半导体制造中先进的掩模设计、验证和检查等任务.

关键词：光刻仿真、分辨率提高技术、光学成像

所属期刊栏目：30

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金;国家高技术研究发展计划（863计划）

在线出版日期：2005-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：24-27