集成光学制备工艺中的清洗和腐蚀

摘要：

论述了集成光学光刻、镀膜工艺中对基片的清洗步骤,阐述了常规材料的腐蚀方法及腐蚀液配制,并分析了腐蚀工艺过程中易出现的问题.

关键词：超声波清洗、干法/湿法腐蚀、浮胶、晶片再生

所属期刊栏目：30

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2005-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：32-34