Al-Si合金RIE参数选择

摘要：

采用正交试验法对二手RIE刻Al设备A-360进行工艺参数选择试验,并以均匀性、刻蚀速率、对PR选择比为评价指标.试验中发现RF功率是影响各评价指标的最主要因素.通过进一步优化工艺,制定出了均匀性小于3%,刻蚀速率高于300nm/min,对PR选择比好于1.8的刻Al实用工艺.

关键词：反应离子刻蚀、正交试验、Al刻蚀、刻蚀速率

所属期刊栏目：29

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2004-12-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：19-21