180nm及更深技术中去除过度注入光刻胶的干剥离工艺

机标关键词：光刻胶、剥离工艺

所属期刊栏目：28

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：35-39,47