直拉硅中氧沉淀的TEM研究

摘要：

论述了使用透射电镜来研究氧沉淀的形态与热处理温度和时间的关系.对氧沉淀的生成动力学,研究的现状和存在的问题以及发展前景也进行了讨论.

关键词：氧沉淀形态:透射电镜、动力学

分类号：TN304.1+2(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：25-28