10.3969/j.issn.1003-353X.2001.08.011
光刻技术在微细加工中的应用
介绍光刻技术中的曝光设备与技术、光刻工艺及工艺控制在集成电路微细加工中的应用。
光刻、深亚微米、曝光分辨率
26
TN405.7(微电子学、集成电路(IC))
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
37-39,48
10.3969/j.issn.1003-353X.2001.08.011
光刻、深亚微米、曝光分辨率
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TN405.7(微电子学、集成电路(IC))
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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