10.3969/j.issn.1003-353X.2001.07.018
表面活性剂对硅单晶片表面吸附颗粒的作用
提出了新抛光硅片镜面吸附动力学过程;深入研究表面活性剂的性质和作用;利用表面活性剂特性,有效地控制硅片表面颗粒处于易清洗的物理吸附状态。
硅片、表面吸附、颗粒、非离子表面活性剂、渗透模型
26
TN305.2(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
59-61
10.3969/j.issn.1003-353X.2001.07.018
硅片、表面吸附、颗粒、非离子表面活性剂、渗透模型
26
TN305.2(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
59-61
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn