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10.3969/j.issn.1003-353X.2001.02.016

电子辐照改善氢化非晶硅的结构弛豫

引用
氢化非晶硅(α-Si:H)的结构弛豫是导致α-Si:H性能光诱导衰变的重要原因之一。用0.5MeV、注量1.3×1020e/cm2的电子束辐照,α-Si转化为微晶硅,不稳定的弱Si-Si键因断裂而减少。α-Si光电池的相应试验初步证实,合适的电子辐照可以缓解α-Si的结构弛豫现象。

电子辐照、非晶硅微晶化、太阳电池

26

O473.4(半导体物理学)

国务院侨务办公室科研项目

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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半导体技术

1003-353X

13-1109/TN

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2001,26(2)

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