ULSI制备中铈在SiO2介质CMP抛光中的作用研究

摘要：

对ULSI制备中铈(Ce)在Si02介质的CMP中的应用及对Ce胶体抛光液的制备进行了较为深入的实验研究,并对提高抛光效果进行了大量实验.

关键词：ULSI、化学机械抛光、全局平面化、Ce离子抛光浆

所属期刊栏目：25

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：38-40