亚微米光刻与光掩模新技术现状与研发前景

摘要：

介绍了光刻与光掩模技术背景与特征,及其创新技术研发的前景与市场机会.

关键词：集成电路、信息技术、光刻技术、光刻机、光掩模

所属期刊栏目：25

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：18-21,32