射频溅射SiO2在制造Si/SiGeHBT中的应用

摘要：

介结了射频溅射SiO2的原理与工艺,对制造出的Si/SiGeHBT作了分析.

关键词：Si/SiGeHBT、射频溅射、SiO2

所属期刊栏目：24

分类号：TP3(计算技术、计算机技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划（863计划）

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：12-14