国产炉拉制Φ＞76.2mm无位错FZ硅单晶的两种工艺热场分析

摘要：

对国产设备试制及生产Φ＞76.2mm无位错FZ硅单晶的两种最为稳定的工艺热场作了较全面的分析总结.

关键词：硅单晶、无位错

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：55-59