移相掩模应用技术

摘要：

一种用于大栅宽器件的移相掩模应用技术是将移相器边缘线用作不透明掩模,以代替铬图形.利用此移相掩模技术,制作了特征线长为0.15μm的微细栅条和大栅宽器件.

关键词：亚半微米、移相掩模

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：28-29