采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究

摘要：

将磁控管方式溅射用于微波ECR等离子体沉积技术.在低气压和低温下沉积了高度C轴取向的ZnO薄膜,其膜的沉积速率比普通ECR溅射中所得到的速率大得多,并且在Φ12cm的膜区域内显示出良好的均匀性.

关键词：磁控管方式、溅射、ECR等离子体、ZnO薄膜

分类号：TN3(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：16-19