10.3969/j.issn.1003-353X.1999.01.014
金刚石的场致发射
报道了金刚石膜的低电场、大电流阴极发射电流现象.总结了几种不同类型样品结构的发射机理.提出了增强发射电流、提高发射稳定性的方法.综述了各种影响发射电流的因素,提出了较为统一的发射电流表达式,使得金刚石膜的发射电流符合F-N理论.
金刚石膜、场致发射、F-N曲线
TN3(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
55-57
10.3969/j.issn.1003-353X.1999.01.014
金刚石膜、场致发射、F-N曲线
TN3(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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