光学印模法与普通印模法制作的全瓷嵌体边缘适合性比较

摘要：

目的 研究采用光学印模法和普通印模法制作的全瓷嵌体与牙体组织间边缘适合性.方法 取1颗形态正常、无牙体缺损的下颌第二磨牙进行牙体预备,二次印模法取模翻制16个相同大小的超硬石膏模型代型,并将所有代型按随机数字表法随机分为光学印模组、普通印模组两组,两组分别用光学印模法和普通印模法取模,制作16个氧化锆全瓷嵌体,然后采用扫描电镜对其边缘间隙厚度进行测量,应用SPSS 19.0软件对实验数据进行统计分析,从而评价嵌体的边缘适合性.结果 光学印模组和普通印模组制作的嵌体水平间隙宽度分别为(46.25±5.04)μm和(77.52±11.71) μm,片切法电镜扫描结果显示,两种方法制作的嵌体边缘测试点均小于120 μm,边缘适合性比较均差异有统计学意义(t=6.938,P=0.000).结论 全瓷嵌体的边缘适合性光学印模组明显优于普通印模组,且两种方法制作的嵌体边缘适合性均在临床的可接受范围之内.

关键词：光学印模、普通印模、全瓷嵌体、边缘适合性

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在线出版日期：2018-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1544-1547